China prepara xeque-mate para os EUA: terá seu próprio equipamento de litografia UVE para fabricar chips em 2025

Não esperávamos por isso. Nem nós, nem muitos dos especialistas em semicondutores que estiveram envolvidos tanto fora quanto dentro da China. Há indícios sólidos de que a Huawei já está testando o primeiro equipamento de fotolitografia ultravioleta extrema (UVE), projetado e fabricado inteiramente no território chinês, em suas instalações em Dongguan, província de Guangdong. A fotografia vazada que publicamos um pouco mais adiante neste artigo corrobora isso.

Os vazamentos afirmam que, diferentemente das máquinas UVE produzidas pela empresa holandesa ASML, este equipamento de litografia chinês utiliza uma fonte de luz ultravioleta do tipo LDP (descarga induzida por laser), e não da classe LPP (plasma gerado por laser). Presumivelmente, o desenvolvimento desta fonte de emissão de radiação ultravioleta é o marco que permitiu aos engenheiros chineses desenvolver uma máquina que muitos especialistas não viam possível antes de, no máximo, cinco anos.

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No momento, o mais prudente é considerar esta informação com cautela, mas ela parece sólida o suficiente para ser mencionada. Uma observação interessante é que, no papel, a fonte LDP é capaz de gerar luz UVE com comprimento de onda de 13,5 nm, portanto, este protótipo chinês deve ser capaz de competir de igual para igual com as máquinas de fotolitografia UVE da ASML. Além disso, vazamentos afirmam que a China iniciará a produção de mais máquinas de teste durante o terceiro trimestre deste ano, com o objetivo de iniciar a fabricação ...

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