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Quarta edição do Epson Digital Couture Project une moda e tecnologia em Nova York

6 fev 2018 - 14h09
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Acontece hoje, 6 de fevereiro, a quarta edição anual do Epson Digital Couture Project. O desfile, que antecede a Semana de Moda de Nova York, traz modelos exclusivos de designers da América do Norte e América Latina, criados com as soluções avançadas de impressão têxtil da Epson. Em 2018, o tema do evento é "Alta Costura Cosmopolita com Cores Impossíveis - Como a sua cultura se veste?" e vai apresentar as infinitas possibilidades criativas que as tecnologias de imagem digital da companhia podem viabilizar.

Foto: DINO

"O futuro da moda é a personalização - das cores e estampas até a forma e o tamanho das peças, tudo a pedido do cliente", comenta Keith Kratzberg, presidente e diretor executivo da Epson America. "Nossa tecnologia de imagem digital está mudando o negócio da moda ao oferecer uma plataforma que permite aos designers imprimir desenhos exclusivos e de excelente qualidade, atendendo às expectativas dos clientes e sem perder prazos. O Digital Couture mostra como o potencial de design e o impacto sobre a indústria da moda ultrapassam todos os limites."

Antes do desfile, a Epson realizará um painel sobre Moda e Tecnologia sobre como a inovação digital está evoluindo na indústria fashion. Com moderação de Anthony Cenname, vice-presidente e editor da Wall Street Journal Magazine, e participação de Kratzberg e de Agustín Chacón, vice-presidente de marketing internacional da Epson America, a apresentação também vai falar sobre as próximas tendências deste mercado e mostrar o papel da tecnologia no mundo da alta costura. O designer de interiores Ryan Korban, Mark Sunderland, da Universidade Thomas Jefferson, e Aliza Licht, vice-presidente executiva de marketing e comunicações para a marca Alice + Olivia e autora do livro "Leave Your Mark", integram, ainda, o painel.

Espetáculo Único

No Digital Couture Project, cada criador (ou criadores) contará uma história por meio de sua coleção, feita com tecidos desenvolvidos com a tecnologia de sublimação de tinta da Epson, que oferece possibilidades ilimitadas de desenho. O resultado final são estampas originais de alta qualidade e exclusivas, em tecidos que transmitem o estilo próprio de cada criador. Participam da quarta edição do evento os seguintes estilistas da América do Norte e América Latina:

• Brasil - Lua Luá (Michele Gevaerd)

• Canadá - Hayley Elsaesser

• Chile - Karyn Coo

• Equador - Stephanie Ruiz

• Guatemala - Eduardo Figueroa

• México - Emilio Mata

• Paraguai - Ilse Jara

• Peru - Ana María Guiulfo

• Colômbia - Lina Cantillo

• Estados Unidos (Los Angeles) - Candice Cuoco

• Estados Unidos (Miami) - Fernando Alberto

• Estados Unidos (Filadélfia) - Thomas Jefferson University (Alexandra Pizzigoni e Patricia Franklin)

• Estados Unidos (Nova York) - threeASFOUR (Gabriel Asfour, Angela Donhauser e Adi Gil)

Michele Gevaerd, a representante brasileira desse talentoso time, é empresária, cofundadora e diretora criativa da Lua Luá, marca de sleep e loungewear com mais de dez anos no mercado e uma das líderes deste segmento. Com seu posicionamento de vanguarda de prints exclusivos e produtos de alto padrão e muito conforto, a marca revolucionou o conceito de roupa para dormir e ficar em casa. "A tecnologia de sublimação é uma grande aliada. A liberdade na criação das estampas unida à qualidade de impressão garante o sucesso de nossos produtos, que ganham o mercado por meio da exclusividade, qualidade e design único", afirma a estilista.

Nesta coleção, as características, costumes e tradições da Finlândia foram a inspiração certeira para a Lua Luá desenvolver peças únicas com estampas exclusivas, fits diferenciados e um mix de cores, remetendo aos detalhes mais especiais dos países nórdicos.

Soluções de impressão têxtil digital da Epson

Três soluções permitem aos empresários e às marcas de moda imprimir em uma ampla variedade de tecidos, de algodão a fibras sintéticas, e obter um novo nível de liberdade criativa.

• Epson SureColor Série F: A tecnologia de impressão por sublimação de tinta oferece aos designers a possibilidade de dar vida às ideias e inspirações com qualidade excepcional. A nova SureColor F9370 é ideal para trabalhos de médio a grande volume, com velocidade de até 108m² por hora.

Os modelos da linha SureColor Série F incluem cabeças de impressão PrecisionCore® TFP® e a tecnologia de tintas Epson UltraChrome® DS, com preto de alta densidade para obter resultados com excelente saturação e alto contraste. Com o software Wasatch SoftRIP, que inclui funções para impressões têxteis, permitem criar e imprimir estampas originais com flexibilidade e controle.

• Epson SureColor F2000: projetada exclusivamente para impressão têxtil direta com alta qualidade e velocidade de produção, é capaz de imprimir diretamente em roupas de algodão 100%, ou em combinações de tecidos 50%/50%, oferecendo ao mundo da moda uma solução integrada por um preço acessível. A SureColor F2000 trabalha com tintas de quatro cores, além da branca, para obter qualidade, velocidade e eficiência superiores, e com o software Epson Garment Creator, oferece máxima produtividade.

• Monna Lisa: A mais recente solução para o mercado têxtil industrial é produzida pela F.lli Robustelli e equipada com cabeças de impressão Epson PrecisionCore e tintas Genesta, criadas pela Epson em colaboração com a For.Tex. Disponível em três larguras (180, 220 e 320 cm), oferece inúmeras vantagens, incluindo a capacidade de imprimir projetos personalizados em uma ampla gama de tecidos e a flexibilidade para criar amostras de baixo custo. Os tecidos impressos com as máquinas Monna Lisa têm alta fidelidade de cor e solidez, características essenciais para os materiais utilizados na indústria têxtil doméstica, também obtidos por meio de processos de pré-tratamento.

Saiba mais sobre o Epson Digital Couture Project em https://epson.com.br/epson-new-york-fashion-week-2018.

Website: https://epson.com.br/epson-new-york-fashion-week-2018

DINO Este é um conteúdo comercial divulgado pela empresa Dino e não é de responsabilidade do Terra
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