Em sua corrida para fabricar chips avançados, a China tentou copiar a ASML — mas está dando errado
Foi revelado que engenheiros chineses desmontaram e remontaram uma máquina de fotolitografia UVP da ASML, mas acabaram a danificando no processo
A China continua avançando de forma extraordinária na fabricação de seus próprios chips avançados, mas ainda enfrenta um grande problema: no momento, não possui equipamentos de fotolitografia de ultravioleta extremo (UVE) próprios. Claro que está trabalhando no desenvolvimento dessa tecnologia e uma das estratégias que tem seguido para superar esse desafio é singular.
Em seu livro de 2010, Copycats, o professor Oded Shenkar argumenta que frequentemente os imitadores acabam superando os inovadores. Embora no Ocidente a visão seja contrária, na China existe uma percepção positiva da cópia, e os processos de engenharia reversa são uma ferramenta importante para conseguir replicar tecnologias. É isso que o país supostamente tentou, segundo indica o The National Interest (TNI).
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Ao delegar a produção para a China, as empresas ocidentais acabaram contribuindo para o desenvolvimento do país e sua especialização. A guerra comercial fez com que a China, logicamente, buscasse agora sua independência diante dos vetos que enfrenta para desenvolver soluções tecnológicas próprias.
Já há avanços importantes nessa área e, recentemente, um fabricante chinês disse possuir um protótipo de máquina UVP (ultravioleta profundo) para a criação de chips relativamente avançados. Se existe um desafio crucial para fabricar chips ainda mais avançados, esse é ter acesso a máquinas de fotolitografia UVE, mas resolver esse primeiro problema é essencial para dar o salto para a tecnologia UVE. E é nesse ...
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