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Por que apenas uma empresa no mundo consegue produzir as máquinas de chip mais avançadas?

Descubra por que a ASML domina a litografia ultravioleta extrema (EUV), é vital para chips avançados e por que nenhuma rival compete

22 fev 2026 - 07h30

A fabricação de chips modernos, presentes em praticamente todos os equipamentos eletrônicos, depende de uma etapa altamente especializada: a litografia. Nesse processo, padrões minúsculos são gravados em lâminas de silício para formar os circuitos dos semicondutores. A tecnologia mais avançada dessa área é a litografia ultravioleta extrema, conhecida como EUV, e apenas uma empresa no mundo, a ASML, sediada na Holanda, consegue produzir as máquinas necessárias para essa etapa. Essa exclusividade se tornou um dos pontos centrais da cadeia global de tecnologia.

A litografia EUV permite fabricar transistores em escalas de poucos nanômetros, algo essencial para chips de alto desempenho usados em centros de dados, inteligência artificial, smartphones topo de linha, carros modernos e equipamentos militares. Sem essas máquinas, a indústria de semicondutores ficaria limitada a tecnologias mais antigas, menos eficientes e com menor capacidade de processamento. Por isso, a ASML ocupa uma posição estratégica, sendo vista como um elo crítico da inovação digital atual.

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O que é a litografia ultravioleta extrema e por que ela é tão importante?

A litografia ultravioleta extrema utiliza luz com comprimento de onda de aproximadamente 13,5 nanômetros, muito menor do que o da litografia ultravioleta profunda (DUV), usada em gerações anteriores de chips. Quanto menor o comprimento de onda da luz, maior a capacidade de desenhar estruturas minúsculas no silício. Isso permite aumentar a densidade de transistores em cada chip, reduzir o consumo de energia e elevar o desempenho.

Essa tecnologia é considerada um dos pilares da continuidade da chamada "Lei de Moore", que descreve a tendência de aumento do número de transistores em um circuito integrado ao longo do tempo. Sem a litografia EUV, a indústria teria dificuldades para continuar encolhendo os componentes eletrônicos. Como resultado, áreas como inteligência artificial, computação em nuvem, 5G e pesquisa científica seriam diretamente impactadas, com avanços mais lentos e equipamentos menos eficientes.

Além do ganho de performance, a litografia EUV também traz benefícios de fabricação. Em muitos casos, ela permite reduzir o número de etapas necessárias para criar certos padrões, simplificando partes do processo de produção de chips avançados. Ainda assim, o uso dessa tecnologia é complexo, caro e exige uma infraestrutura extremamente controlada, o que reforça a relevância das máquinas desenvolvidas pela ASML.

Cada máquina de EUV reúne milhares de componentes de altíssima precisão e leva anos de pesquisa e bilhões em investimentos para ser desenvolvida – depositphotos.com / marchcattle
Cada máquina de EUV reúne milhares de componentes de altíssima precisão e leva anos de pesquisa e bilhões em investimentos para ser desenvolvida – depositphotos.com / marchcattle
Foto: Giro 10

Por que apenas a ASML consegue fabricar máquinas de litografia EUV?

A máquina de litografia EUV é um dos equipamentos industriais mais complexos já construídos. Uma única unidade envolve dezenas de milhares de componentes de alta precisão, fornecidos por uma extensa rede de parceiros ao redor do mundo. O desenvolvimento dessa tecnologia demandou mais de duas décadas de pesquisa, bilhões de euros em investimento e colaboração próxima com grandes fabricantes de chips e instituições científicas.

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Alguns fatores explicam por que apenas a ASML domina esse segmento:

  • Complexidade extrema do sistema óptico: as lentes usadas nessas máquinas são produzidas por uma única empresa alemã altamente especializada, com padrões de polimento e pureza raramente vistos em outras indústrias.
  • Fonte de luz EUV sofisticada: a geração da luz ultravioleta extrema exige laser de alta potência disparando sobre gotas de estanho, num processo altamente controlado e estável, resultado de anos de refinamento.
  • Integração de múltiplas disciplinas: cada máquina combina óptica, física de plasma, mecânica de precisão, controle de vibração, software avançado, sistemas de vácuo e materiais especiais, todos integrados com tolerâncias nanométricas.

Além disso, a ASML construiu, ao longo do tempo, um ecossistema de parcerias tecnológicas com grandes fabricantes de chips, que participam do desenvolvimento e do financiamento da evolução das máquinas. Essa cooperação contínua cria uma barreira adicional para novos entrantes, que teriam de reproduzir não apenas o equipamento, mas também toda a rede de conhecimento por trás dele.

Por que nenhuma outra empresa consegue competir com a ASML nesse mercado?

A palavra-chave nesse cenário é barreira de entrada. O mercado de máquinas de litografia EUV exige investimentos gigantescos, prazos longos de desenvolvimento e um nível de risco elevado. Poucas empresas têm condições financeiras e técnicas de sustentar um projeto que pode levar muitos anos até gerar retorno. A ASML começou essa jornada ainda nos anos 1990, em um período em que o sucesso da tecnologia não era garantido.

Alguns motivos que dificultam a concorrência direta são frequentemente apontados por analistas:

  1. Custo e risco de pesquisa e desenvolvimento: replicar o caminho da ASML significaria investir valores bilionários sem garantia de mercado, já que os principais clientes atuais já estão profundamente integrados ao ecossistema da empresa holandesa.
  2. Propriedade intelectual extensa: a empresa detém um vasto portfólio de patentes e know-how acumulado, cobrindo desde a óptica até o controle de processos internos das máquinas.
  3. Cadeia de suprimentos exclusiva: muitos componentes são desenvolvidos sob medida para a ASML, com contratos de longo prazo e cooperação tecnológica que não se transferem facilmente para concorrentes.
  4. Curva de aprendizado: o domínio da produção em escala dessas máquinas exige experiência prática, com ajustes contínuos em campo junto aos fabricantes de chips.

Há ainda um aspecto geopolítico relevante. Por ser uma peça central na produção de chips avançados, a litografia EUV está no centro de discussões de segurança nacional, especialmente entre Europa, Estados Unidos e Ásia. Restrições de exportação e acordos internacionais tornam o ambiente regulatório ainda mais sensível, o que também influencia a entrada de novos competidores nesse nicho.

A litografia ultravioleta extrema (EUV) permite criar chips com transistores de poucos nanômetros, essenciais para inteligência artificial e smartphones avançados – depositphotos.com / artistdesign13@gmail.com
Foto: Giro 10

Qual o impacto dessa dependência tecnológica no futuro dos chips?

A concentração da tecnologia de litografia EUV em uma única empresa cria uma espécie de "gargalo" estratégico para toda a indústria de semicondutores. Grandes fabricantes de chips em diferentes países dependem diretamente da capacidade da ASML de entregar, atualizar e manter essas máquinas. Qualquer atraso, restrição de exportação ou problema de produção pode afetar cronogramas de lançamentos de processadores, placas gráficas, memórias e outros componentes críticos.

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Ao mesmo tempo, essa dependência incentiva governos e empresas a investirem em pesquisa de alternativas, como novas abordagens de fabricação, tecnologias complementares ou tentativas de desenvolver soluções concorrentes no longo prazo. Até o momento, porém, a combinação de fatores técnicos, econômicos e organizacionais mantém a ASML em uma posição única. A litografia ultravioleta extrema, portanto, segue como uma tecnologia central para a evolução dos chips, e a empresa holandesa continua sendo a principal responsável por entregar as ferramentas que sustentam essa etapa da inovação global.

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