A litografia por ultravioleta extremo (UVE) é o maior gargalo de toda a indústria de semicondutores. Apenas uma empresa no mundo, a neerlandesa ASML, fabrica essas máquinas, indispensáveis para produzir circuitos integrados com tecnologia inferior a 7 nm. Desde 2019, a companhia está proibida de vender seus modelos mais avançados para a China por pressão dos EUA. Cada equipamento custa entre 200 milhões e 400 milhões de dólares e, até agora, nenhum cliente chinês conseguiu adquirir um deles.
Uma equipe da Academia Chinesa de Ciências, sediada no Instituto de Óptica e Mecânica de Precisão de Xangai, construiu a primeira plataforma chinesa de fonte de luz UVE baseada em laser-plasma. À frente do projeto está Lin Nan, ex-cientista da ASML e ex-responsável técnico pelas fontes de luz para metrologia da empresa, que retornou à China em 2021 como parte de um programa estatal de atração de talentos. Sua equipe optou por um caminho que evita deliberadamente o método utilizado pela ASML, bem como mais de 2 mil de suas patentes.
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Qiu Yanfang, colunista chinesa especializada em semicondutores, resumiu a estratégia: esse desvio das patentes não é apenas uma manobra jurídica; é engenharia de verdade. E foi justamente essa avaliação, publicada há apenas duas semanas, que voltou a colocar em evidência o quanto a China avançou em sua corrida pela independência tecnológica na litografia.
O caminho mais longo até a produção em massa
O truque técnico funciona da seguinte forma: enquanto a ASML ...
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