Durante anos, a estratégia de contenção de Washington baseou-se numa premissa: a China poderia projetar e fabricar chips, mas jamais conseguiria fabricar as máquinas necessárias para imprimir os mais avançados. Essas máquinas, de litografia ultravioleta extrema (EUV), são um monopólio exclusivo da empresa holandesa ASML. No entanto, uma investigação da Reuters expôs essa segurança: a China não só encontrou uma alternativa, como executou uma operação massiva e clandestina. O resultado? Este "Projeto Manhattan" alcançou o impossível: um protótipo funcional de uma máquina EUV em solo chinês.
Como isso foi possível?
Segundo a pesquisa, no início de 2025, cientistas chineses concluíram a construção de um protótipo capaz de gerar luz ultravioleta extrema. A máquina, localizada em um complexo de alta segurança em Shenzhen, é tão grande que ocupa quase toda uma fábrica (as da ASML são muito menores) para compensar a falta de eficiência com força bruta.
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O sistema aparentemente consegue disparar lasers em gotículas de estanho fundido 50 mil vezes por segundo para gerar o plasma necessário para "assinar" os chips. Embora ainda não consiga imprimir chips comerciais devido à falta de sistemas ópticos de precisão (um dos poucos obstáculos restantes), o fato de estar operacional antecipa as previsões de décadas da China sobre a independência tecnológica para um horizonte próximo, entre 2028 e 2030. Sabíamos que a China estava explorando vias alternativas, como a nanoimpressão, para contornar o...
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