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ASML e Zeiss afirmam que tecnologia de fabricação de chips de próxima geração poderá estar pronta em 10 anos
Engenheiros da ASML e da Carl Zeiss projetam para daqui a dez anos a tecnologia "Hyper NA", sucessora das máquinas de litografia atuais. Capaz de imprimir circuitos de apenas 5 nanômetros — redução de mais de um terço em relação à ferramenta High NA —, a novidade promete acelerar o desempenho de chips cruciais para IA ao mesmo tempo em que reutiliza grande parte da infraestrutura óptica e das fontes de luz já existentes, mantendo a liderança europeia no setor mesmo com desafios técnicos pendentes.
Um sucessor da máquina de fabricação de chips mais avançada da ASML poderá estar pronto em cerca de 10 anos, afirmaram engenheiros da empresa e de sua parceira em óptica, a Carl Zeiss, em um artigo revisado por pares.
A ferramenta, apelidada de "Hyper NA", imprimiria circuitos menores, reutilizando grande parte da tecnologia já existente das empresas, segundo o artigo, embora ainda existam desafios.
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A máquina que a ASML começou a desenvolver mas ainda não se comprometeu a produzir, é importante para as perspectivas futuras da empresa, bem como para as de seus parceiros e concorrentes.
A ASML não se pronunciou de imediato.
A empresa é a mais valiosa da Europa em termos de capitalização de mercado, graças ao seu monopólio em ferramentas de litografia que utilizam luz ultravioleta extrema (EUV) para imprimir os minúsculos circuitos dos chips de IA.
CHIPS MENORES E MAIS RÁPIDOS
O artigo publicado na edição de outubro do Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology afirma que a tecnologia Hyper NA pode imprimir detalhes com apenas 5 nanômetros, mais de um terço menores do que a atual ferramenta EUV "High NA" da ASML.
Embora os fabricantes de chips estejam aprimorando os chips com designs 3D, componentes menores continuam sendo essenciais para velocidade e consumo de energia, e a litografia é um fator limitante.
Entre os fabricantes de chips, a Intel começou a usar High NA na produção, enquanto no mês passado a Samsung e SK Hynix disseram que seguiriam em 2028 e a TSMC em 2030.
O artigo afirmava que a Zeiss já consegue fabricar espelhos com precisão suficiente para a tecnologia Hyper NA, e que a máquina seria pouco maior do que as ferramentas High NA, que já têm o tamanho de um ônibus de dois andares.
Além do Hyper NA, os autores afirmaram que as ferramentas provavelmente precisarão usar um comprimento de onda de luz mais curto, o que ainda é assunto para pesquisa acadêmica.
Eles afirmaram que a fonte de luz atual da ASML "pode ser reutilizada tal como está" para o Hyper NA, mencionando em uma nota que uma técnica alternativa com lasers de elétrons livres não alteraria o projeto do sistema de iluminação.
Essas falas são relevantes para startups americanas, incluindo a xLight, que está desenvolvendo fontes de luz laser de elétrons livres que Elon Musk insinuou que poderia priorizar em sua fábrica de chips Terafab, no Texas, e para a Substrate, que está investindo em litografia de raios X.
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